PVD (fizikalna para depozicija) je postopek nanašanja kovinskih premazov, ki omogoča nanašanje tankih filmov snovi pod vakuumom s pomočjo pare.
Temperatura nanašanja za PVD premaze je običajno med 80 in 150 °C.
Debelina nanosa je 2 +/- 0,5 (mikron)
Trdota HV 0,05 je med 800-1000
Usklajeno z normami REACH in RoHS
PVD (fizikalna depozicija pare) je postopek nanosov, ki omogoča nanos tankih filmov materiala pod vakuumom s pomočjo pare.
Obdelovane komponente so n...
ALD (deponiranje atomskih plasti v angleščini, ali deponiranje atomskih plasti v francoščini) je postopek deponiranja, ki omogoča deponiranje tankih f...
PVD (fizikalna depozicija pare) je postopek nanosov, ki omogoča nanos tankih filmov materiala pod vakuumom s pomočjo pare.
Obdelovane komponente so n...
ALD (deponiranje atomskih plasti v angleščini, ali deponiranje atomskih plasti v francoščini) je postopek deponiranja, ki omogoča deponiranje tankih f...