RF Sensing Tehnologija

NEINVAZIVNI, PRITISNI RF DETEKTOR PONUDI VISOKO HITROSTNO ODKRIVANJE ISKRENJA V iPVD, PECVD IN ETCH Zmanjšanje izgub wafrov in izboljšanje donosnosti Iskrenje med obdelavo s plazmo lahko povzroči poškodbe tarče in komore, kar vodi do poškodb substrata in nastanka delcev. Ko se velikosti funkcij zmanjšujejo, postajajo mikroelektronske naprave vse bolj dovzetne za poškodbe, ki jih povzroča iskrenje. Iskrenje se lahko pojavi v katerem koli procesu, ki ga podpira plazma, kot so ionizirana fizična depozicija pare (iPVD), plazmatsko izboljšana kemična depozicija pare (PECVD) in etching. INFICON Sion Arc Detector zagotavlja ključno prvo obrambno linijo. Sion omogoča hitro odkrivanje mikro-isker in odzivanje nanje, preden pride do pomembnih poškodb ali odpadkov. Sistem zagotavlja odkrivanje in analizo dogodkov mikro-iskrenja s plazmo v realnem času.